特注システム
画像計測システム(ステージ)
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| システム名 | 画像計測システム | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 概要 | 高精度XY軸ステージを使用した画像計測システムです。コムス社製汎用ポジションコントローラと、添付のソフトにて、ステージ位置制御、カメラシャッター制御、計測制御を行うためのIO入出力制御、計測トリガの制御が可能です。 | |||||||||
| 用途例 | 広範囲の画像計測 | |||||||||
| システム構成 |
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計測加工システム (RAP)
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| システム名 | 計測加工システム | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 概要 | レーザー変位センサにてワークの高さを計測し、この計測データに基づいてツール位置を補正しながらワークの高さにならって切削加工運転を可能にしたシステムです。 | |||||||||||
| 用途例 | うねりのあるサンプル形状に沿った加工 | |||||||||||
| システム構成 |
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高さ補正機能付3軸ロボット (RAP)
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| システム名 | 高さ補正機能付3軸ロボット (RAP) | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 概要 | レーザ変位センサにてワークの高さを計測し、その計測データに基づき塗布機の高さ補正を行いながら、ワークの反りにならった位置決め動作による塗布運転が可能です。高精度XYZ軸ステージはリニアスケールを搭載し、位置決め精度は5μm を達成しております。 | |||||||||||
| 用途例 | 反りのあるワークへの塗布動作 | |||||||||||
| システム構成 |
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大型計測ステージ (ステージ)
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| システム名 | 大型計測ステージ | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 概要 | X軸600mm、Y軸900mmのストロークの自動ステージを搭載したガントリー型大型計測用システムです。ベースユニットに石定盤を採用している為、広範囲を高精度に測定したい用途に適しています。 | |||||||||
| 用途例 | 金属板のそり測定、i-Unit測定 | |||||||||
| システム構成 |
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大型計測測定システム (ステージ)
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| システム名 | 大型計測測定システム | |||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 概要 | X軸800mm、Z軸600mmのストロークの自動ステージで構成された計測用システムです。高さ方向の移動範囲が広いので、高さのあるワークの側面からの計測に適しています。 | |||||||||
| 用途例 | 大型サンプルの側面計測 | |||||||||
| システム構成 |
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透過型3軸ロボット (ステージ）
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| システム名 | 透過型3軸ロボット | |||||||||
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| 概要 | XYZ軸のステージを取り付けるペースプレート部の中央部に開口部を設けて、ワークをXYZ軸の自動ステージから離れた位置に置く事が可能です。 | |||||||||
| 用途例 | 磁性体の測定 | |||||||||
| システム構成 |
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倒立型顕微鏡用塗布装置(ステージ)
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| システム名 | 倒立型顕微鏡用塗布装置 | |||||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 概要 | 倒立型顕微鏡に塗布用のXY軸自動ステージ組込む事で、塗布位置設定行うだけで、インクジェットプリンタ、ディスペンサの位置決め、塗布動作が可能です。 | |||||||||||
| 用途例 | バイオ向け用途での顕微鏡サンプルステージ、サンプル塗布の自動化 | |||||||||||
| システム構成 |
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